半导体行业设备名称大全(半导体 创业公司)

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半导体行业设备繁多，以下是一份半导体创业公司可能会用到的设备名称大全：

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### 光刻设备

1. 光刻机

2. 具体型号如：ASML的TWINSCAN、Nikon的ArF 300i等

3. 光刻光源

4. 光刻掩模

5. 光刻对准系统

6. 光刻台

### 刻蚀设备

1. 刻蚀机

2. 具体型号如： Applied Materials的E-beam刻蚀机、Lam Research的ATM 2000等

3. 刻蚀气体供应系统

4. 刻蚀气体清洗系统

### 沉积设备

1. 化学气相沉积（CVD）设备

2. 物理气相沉积（PVD）设备

3. 具体型号如： Applied Materials的D200CVD、Lam Research的P5000等

4. 沉积源

5. 沉积监控设备

### 干法清洗设备

1. 干法清洗机

2. 具体型号如： Applied Materials的SCP etchback、Lam Research的EKC etchback等

### 湿法清洗设备

1. 湿法清洗机

2. 具体型号如： Applied Materials的Wetbench、Lam Research的Wetbench等

### 离子注入设备

1. 离子注入机

2. 具体型号如： Veeco的Ion Beam Technology等

### 化学机械抛光（CMP）设备

1. CMP抛光机

2. 具体型号如： Applied Materials的Centura、Lam Research的Tahoe等

### 离子束刻蚀设备

1. 离子束刻蚀机

2. 具体型号如： Oxford Instruments的IONP束刻蚀机等

### 分析检测设备

1. 扫描电子显微镜（SEM）

2. 透射电子显微镜（TEM）

3. 能量色散X射线光谱仪（EDS）

4. 光电子能谱仪（XPS）

5. 扫描探针显微镜（SPM）

6. 拉曼光谱仪

### 其他设备

1. 热处理设备

2. 真空系统

3. 气体供应系统

4. 控制系统

5. 机器人设备

以上设备名称只是半导体行业常用设备的一部分，具体到创业公司可能需要根据实际工艺流程和需求来选择合适的设备。

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